Aplicacao da fluorescencia de raios X (WDXRF): determinacao da espessura e composicao quimica de filmes finos
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Data
2004
Data de publicação:
Autores IPEN
Orientador
Nelson Batista de Lima
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Resumo
Neste trabalho é descrito um procedimento para a determinação quantitativa da espessura e composição química de filmes finos, por fluorescência de raios X por dispersão de comprimento de onda (WDXRFS), utilizando-se o método de Parâmetros Fundamentais (FP). Este método foi validado dentro dos padrões de garantia de qualidade e aplicado as amostras de Al, Cr, TiO2, Ni, ZrO2 (monocamada) e Ni/Cr (duplacamada) sobre vidro; Ni sobre aço inoxidável e zinco metálico e TiO2 sobre ferro metálico (monocamada), as quais foram preparadas por deposição física de vapor (PVD). Os resultados das espessuras foram comparados com os métodos de Absorção (FRX-A) e Retroespalhamento de Rutherford (RBS), demonstrando a eficiência do método de parâmetros fundamentais. As características estruturais das amostras foram analisadas por difração de raios X (DRX) e mostraram que os mesmos não influenciam nas determinações das espessuras.
Como referenciar
SCAPIN, VALDIRENE de O. Aplicacao da fluorescencia de raios X (WDXRF): determinacao da espessura e composicao quimica de filmes finos. Orientador: Nelson Batista de Lima. 2004. 77 f. Dissertacao (Mestrado) - Instituto de Pesquisas Energeticas e Nucleares - IPEN/CNEN-SP, Sao Paulo. DOI: 10.11606/D.85.2004.tde-06082007-150613. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/11157. Acesso em: 17 Apr 2024.
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