Initial microstructural development of surface oxidized layer during silicon nitride oxidation

Imagem de Miniatura
Download
Data
Data de publicação:
1997
Autores IPEN
Orientador
Título da Revista
ISSN da Revista
Título do Volume
É parte de
É parte de
É parte de
É parte de
16th MEETING OF THE BRAZILIAN SOCIETY FOR ELECTRON MICROSCOPY
Exportar
Mendeley
Projetos de Pesquisa
Unidades Organizacionais
Fascículo

Como referenciar
MORAIS, D.S.; BRESSIANI, A.H.A. Initial microstructural development of surface oxidized layer during silicon nitride oxidation. In: 16th MEETING OF THE BRAZILIAN SOCIETY FOR ELECTRON MICROSCOPY, September 1-5, 1997, Caxambu, MG. Abstract... p. 124-125. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/22659. Acesso em: 25 Apr 2024.
Esta referência é gerada automaticamente de acordo com as normas do estilo IPEN/SP (ABNT NBR 6023) e recomenda-se uma verificação final e ajustes caso necessário.

Agência de fomento
Assuntos
microstructure; silicon nitrides; oxidation; aluminium oxides; rare earth compounds; x-ray diffraction; scanning electron microscopy; x-ray spectroscopy; silicon oxides; yttrium silicates
URI
http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/22659
Coleções
Eventos - Resumos