Caracterização microestrutural de filmes finos de TiO2
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Data
2017
Data de publicação:
Autores IPEN
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Revista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúde
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Resumo
Filmes finos de dióxido de titânio vêm sendo
utilizados em diversas aplicações tecnológicas,
desde revestimentos autolimpantes e
bactericidas, até células solares e fotocatalisadores.
O TiO2 apresenta polimorfismo
em três fases cristalinas: anatase, broquita
e rutilo, cada uma com propriedades físicas
e químicas específicas. O presente trabalho
apresenta o resultado do somatório de
experiências desenvolvidas pelo grupo de
pesquisa do Laboratório de Filmes Finos e
Nanoestruturas do IPEN (Brasil), analisando
por meio dos respectivos estudos a influência
da temperatura de deposição e substrato
sobre a morfologia dos filmes obtidos. Os
filmes de TiO2 foram crescidos através da
técnica de deposição química de organometálicos
em fase vapor (MOCVD), sobre
substratos de borossilicato, a 400 e 500°C, e
substratos Si(100) nas temperaturas de 400,
500, 600 e 700°C. Observando-se os espectros
de difração de raios-X dos filmes, foi verificado que a 400 e 500°C há a presença
apenas da fase anatase, enquanto que a
600°C pode-se identificar as fases anatase e
rutilo. O filme crescido a 700°C apresentou,
além de anatase e rutilo, a fase broquita. Foi
observadoque a velocidade de crescimento
dos filmes aumenta com a temperatura
até 500°C e, a partir disso diminui, aspecto
característico da curva do processo, que
indica haver uma mudança de mecanismo
de crescimento.
Como referenciar
BENTO, RODRIGO T.; FERRUS FILHO, ANDRE; PILLIS, MARINA F. Caracterização microestrutural de filmes finos de TiO2: uma revisão. Revista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúde, v. 7, n. 2, p. 4-17, 2017. DOI: 10.18816/r-bits.v7i2.10272. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/28486. Acesso em: 23 Apr 2024.
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