Analysis and measurement of the non-linear refractive index of SiOxNy using pedestal waveguides
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2019
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SYMPOSIUM ON MICROELECTRONICS TECHNOLOGY AND DEVICES, 34th
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Resumo
In this work, the non-linear refractive index (n2)
of silicon oxynitride (SiOxNy) is determined, obtaining a value
for this material of n2 = 2.11×10-19 m2/W. The results
demonstrate that this material has interesting properties for the
development of non-linear optical devices. The paper presents
in detail the waveguide fabrication process using the pedestal
technique, which allows using different materials since it does
not require etching to define the sidewalls of the waveguides. We
show the results of the measurement of the n2 employing the
non-linear optical phenomena of Self-Phase Modulation (SPM).
Como referenciar
SIERRA, JULIAN H.; CARVALHO, DANIEL O.; SAMAD, RICARDO E.; RANGEL, RICARDO C.; ALAYO, MARCO I. Analysis and measurement of the non-linear refractive index of SiOxNy using pedestal waveguides. In: SYMPOSIUM ON MICROELECTRONICS TECHNOLOGY AND DEVICES, 34th, August 26-30, 2019, São Paulo, SP. Proceedings... Piscataway, NJ, USA: IEEE, 2019. DOI: 10.1109/SBMicro.2019.8919392. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/30962. Acesso em: 20 Apr 2024.
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