PILLIS, M.F.FRANCO, A.C.ARAUJO, E.G. deSACILOTTI, M.2014-11-172014-11-182015-04-022014-11-172014-11-182015-04-02PILLIS, M.F.; FRANCO, A.C.; ARAUJO, E.G. de; SACILOTTI, M. Caracterização de filmes de nitreto de titânio obtidos por MOCVD. In: CONGRESSO BRASILEIRO DE CERAMICA, 53., 7-10 de junho, 2009, Guaruja, SP. <b>Anais...</b> Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/16683.http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/16683O uso de revestimentos cerâmicos no setor industrial é bastante conhecido, seja para aumentar o desempenho de ferramentas de corte, na proteção contra corrosão ou ainda nas áreas de microeletrônica, óptica e médica. Dentre estes revestimentos, se destacam os nitretos de metais de transição, que despertaram interesse especial devido a sua alta dureza e estabilidade térmica. Neste trabalho foram obtidos filmes finos de nitreto de titânio por meio da técnica MOCVD (metallorganic chemical vapor deposition). Os crescimentos foram conduzidos por 1h a 700°C sob pressão de 80 e 100 mbar. Os revestimentos foram caracterizados por microscopia eletrônica de varredura acoplada a análises químicas por energia dispersiva, e difração de raiosX. Resultados preliminares sugerem a formação da fase Ti2N, e velocidades de crescimento da camada que variaram de 4 a 13 nm/min em função da variável de processo considerada.openAccessfilmstitanium nitrideschemical vapor depositioncoatingsscanning electron microscopyx-ray diffractionTexto completo de eventohttps://orcid.org/0000-0002-1423-871X