Nelson Batista de LimaSCAPIN, VALDIRENE de O.2014-10-092014-10-092014-10-092014-10-092004SCAPIN, VALDIRENE de O. <b>Aplicacao da fluorescencia de raios X (WDXRF): determinacao da espessura e composicao quimica de filmes finos</b>. Orientador: Nelson Batista de Lima. 2004. 77 f. Dissertacao (Mestrado) - Instituto de Pesquisas Energeticas e Nucleares - IPEN/CNEN-SP, Sao Paulo. DOI: <a href="https://dx.doi.org/10.11606/D.85.2004.tde-06082007-150613">10.11606/D.85.2004.tde-06082007-150613</a>. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/11157.http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/11157Neste trabalho é descrito um procedimento para a determinação quantitativa da espessura e composição química de filmes finos, por fluorescência de raios X por dispersão de comprimento de onda (WDXRFS), utilizando-se o método de Parâmetros Fundamentais (FP). Este método foi validado dentro dos padrões de garantia de qualidade e aplicado as amostras de Al, Cr, TiO2, Ni, ZrO2 (monocamada) e Ni/Cr (duplacamada) sobre vidro; Ni sobre aço inoxidável e zinco metálico e TiO2 sobre ferro metálico (monocamada), as quais foram preparadas por deposição física de vapor (PVD). Os resultados das espessuras foram comparados com os métodos de Absorção (FRX-A) e Retroespalhamento de Rutherford (RBS), demonstrando a eficiência do método de parâmetros fundamentais. As características estruturais das amostras foram analisadas por difração de raios X (DRX) e mostraram que os mesmos não influenciam nas determinações das espessuras.77openAccessthin filmsthicknesschemical compositionx-ray fluorescence analysisDissertação10.11606/D.85.2004.tde-06082007-150613