LUCIETTO, L.C.CAMPOS, A.C.S.RICHARDSON, N.YAMASAKI, M.C.R.2014-11-172014-11-182015-04-022014-11-172014-11-182015-04-02LUCIETTO, L.C.; CAMPOS, A.C.S.; RICHARDSON, N.; YAMASAKI, M.C.R. Utilizacao de ultravioleta e feixe de eletrons na tecnologia de cura de tintas, vernizes e revestimentos. Situacao atual e perspectivas. In: 4o. CONGRESSO INTERNACIONAL DE TINTAS, 16-18 de outubro, 1995, Sao Paulo, SP. p. 184-191. DisponÃvel em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/12668.http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/12668184-191openAccessinksvarnishescoatingsadhesivescuringultraviolet radiationelectron beamsreductionsolventsUtilizacao de ultravioleta e feixe de eletrons na tecnologia de cura de tintas, vernizes e revestimentos. Situacao atual e perspectivasTexto completo de evento