GONCALVES, A.SACILOTTI, M.FRANCO, A.C.PILLIS, M.F.2014-11-172014-11-182015-04-012014-11-172014-11-182015-04-01GONCALVES, A.; SACILOTTI, M.; FRANCO, A.C.; PILLIS, M.F. Caracterização de revestimentos TiO2/TiN com estrutura de multicamadas obtidos por deposição química em fase vapor. In: CONGRESSO BRASILEIRO DE CERAMICA, 54., 30 de maio - 2 de junho, 2010, Foz do Iguacu, PR. <b>Anais...</b> Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/17979.http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/17979Este trabalho teve por objetivo o crescimento, em uma única etapa, de filmes compostos por multicamadas TiO2/TiN. O crescimento foi feito sobre substrato Si (100) em um equipamento MOCVD horizontal. Isopropóxido de titânio foi utilizado como fontes de oxigênio e de titânio. Amônia foi utilizada como fonte de nitrogênio. Os testes foram conduzidos sob pressão de 80 mbar, na temperatura de 700°C. Os filmes foram caracterizados por meio de técnicas de microscopia eletrônica de varredura com emissão de campo (MEV-FEG), e difração de raios X (DRX). Foram obtidos filmes de 4 e 8 bicamadas TiO2/TiN. Os filmes apresentam estrutura colunar.openAccesstitanium oxidestitanium nitridescoatingsfilmschemical vapor depositionTexto completo de eventohttps://orcid.org/0000-0002-1423-871X