SANTOS, S.C.MELLO CASTANHO, S.R.H.2014-11-172014-11-182015-04-022014-11-172014-11-182015-04-02SANTOS, S.C.; MELLO CASTANHO, S.R.H. Caracterizacao fisico-quimica de pos de oxido de itrio. In: CONGRESSO BRASILEIRO DE ENGENHARIA E CIENCIA DOS MATERIAIS, 18., 24-28 de novembro, 2008, Porto de Galinhas, PE. <b>Anais...</b> p. 1243-1251. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/15840.http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/15840A ítria (Y2O3) é utilizada em diversas aplicações tecnológicas, tais como fósforos para displays, lasers de estado sólido, televisores de alta definição, displays de plasma, tubos de raios catódicos, também como estabilizante estrutural da zircônia (ZrO2) e aditivo de sinterização para diversos materiais cerâmicos covalentes. O conhecimento de suas características físico-químicas e propriedades microestruturais fornecem importantes subsídios para um adequado processamento e controle dos produtos finais à base de óxido de ítrio. Este trabalho avalia as características físico-químicas dos pós de ítria comercial, comparando-se as características antes e após moagem em moinho atritor, utilizando-se as técnicas de difração de raios X (DRX), microscopia eletrônica de varredura (MEV), determinação da área de superfície específica (BET), entre outras. Os pós moídos por 3 horas apresentaram os melhores resultados.1243-1251openAccessyttrium oxidesprocessingmillingx-ray diffractionscanning electron microscopyCaracterização físico-química de pôs de oxido de ítrioTexto completo de eventohttps://orcid.org/0000-0002-0155-9100