SCAPIN, V.O.SCAPIN, M.A.SALVADOR, V.L.R.LIMA, N.B.MITANI, S.E.SAMAD, R.E.2014-07-302014-07-302014-07-302014-07-302002SCAPIN, V.O.; SCAPIN, M.A.; SALVADOR, V.L.R.; LIMA, N.B.; MITANI, S.E.; SAMAD, R.E. Aplicacao da Fluorescencia de Raios X (WDXRFS) para a determinacao da espessura de filmes finos. <b>Revista Brasileira de Pesquisa e Desenvolvimento</b>, v. 4, n. 3, p. 1015-1018, 2002. Parte 1. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/5973.0104-7698http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/59731015-1018openAccessx-ray fluorescence analysisthin filmsnickelthicknessArtigo de periódico34Parte 1https://orcid.org/0000-0001-7762-8961https://orcid.org/0000-0002-6444-9224https://orcid.org/0000-0002-0606-4369