SCHEIDT, G.SSILVA JUNIOR, O.P.V.ARAUJO, E.G.PILLIS, M.F.2015-02-092015-04-022015-02-092015-04-02SCHEIDT, G.S; SILVA JUNIOR, O.P.V.; ARAUJO, E.G.; PILLIS, M.F. Caracterização de filmes finos de óxidos de nióbio obtidos por sputtering reativo. In: CONGRESSO BRASILEIRO DE ENGENHARIA E CIÊNCIA DOS MATERIAIS, 21., 9-13 de novembro, 2014, Cuiabá, MT. <b>Anais...</b> p. 795-802. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/23468.http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/23468795-802openAccessthin filmsniobium oxidessputteringrefractive indexoptical propertieschemical propertiescorrosion resistancesiliconboron silicatesellipsometryrutherford scatteringTexto completo de eventohttps://orcid.org/0000-0002-1423-871X