Caracterização microestrutural de filmes finos de TiO2
| dc.contributor.author | BENTO, RODRIGO T. | |
| dc.contributor.author | FERRUS FILHO, ANDRE | |
| dc.contributor.author | PILLIS, MARINA F. | |
| dc.coverage | Nacional | pt_BR |
| dc.date.accessioned | 2018-02-19T13:25:44Z | |
| dc.date.available | 2018-02-19T13:25:44Z | |
| dc.date.issued | 2017 | pt_BR |
| dc.description.abstract | Filmes finos de dióxido de titânio vêm sendo utilizados em diversas aplicações tecnológicas, desde revestimentos autolimpantes e bactericidas, até células solares e fotocatalisadores. O TiO2 apresenta polimorfismo em três fases cristalinas: anatase, broquita e rutilo, cada uma com propriedades físicas e químicas específicas. O presente trabalho apresenta o resultado do somatório de experiências desenvolvidas pelo grupo de pesquisa do Laboratório de Filmes Finos e Nanoestruturas do IPEN (Brasil), analisando por meio dos respectivos estudos a influência da temperatura de deposição e substrato sobre a morfologia dos filmes obtidos. Os filmes de TiO2 foram crescidos através da técnica de deposição química de organometálicos em fase vapor (MOCVD), sobre substratos de borossilicato, a 400 e 500°C, e substratos Si(100) nas temperaturas de 400, 500, 600 e 700°C. Observando-se os espectros de difração de raios-X dos filmes, foi verificado que a 400 e 500°C há a presença apenas da fase anatase, enquanto que a 600°C pode-se identificar as fases anatase e rutilo. O filme crescido a 700°C apresentou, além de anatase e rutilo, a fase broquita. Foi observadoque a velocidade de crescimento dos filmes aumenta com a temperatura até 500°C e, a partir disso diminui, aspecto característico da curva do processo, que indica haver uma mudança de mecanismo de crescimento. | pt_BR |
| dc.format.extent | 4-17 | pt_BR |
| dc.identifier.citation | BENTO, RODRIGO T.; FERRUS FILHO, ANDRE; PILLIS, MARINA F. Caracterização microestrutural de filmes finos de TiO2: uma revisão. <b>Revista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúde</b>, v. 7, n. 2, p. 4-17, 2017. DOI: <a href="https://dx.doi.org/10.18816/r-bits.v7i2.10272">10.18816/r-bits.v7i2.10272</a>. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/28486. | |
| dc.identifier.doi | 10.18816/r-bits.v7i2.10272 | pt_BR |
| dc.identifier.fasciculo | 2 | pt_BR |
| dc.identifier.issn | 2236-1103 | pt_BR |
| dc.identifier.orcid | https://orcid.org/0000-0002-1423-871X | |
| dc.identifier.uri | http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/28486 | |
| dc.identifier.vol | 7 | pt_BR |
| dc.relation.ispartof | Revista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúde | pt_BR |
| dc.rights | openAccess | pt_BR |
| dc.subject | titanium oxides | |
| dc.subject | thin films | |
| dc.subject | chemical vapor deposition | |
| dc.subject | organometallic compounds | |
| dc.subject | nanostructures | |
| dc.subject | substrates | |
| dc.title | Caracterização microestrutural de filmes finos de TiO2 | pt_BR |
| dc.type | Artigo de periódico | pt_BR |
| dspace.entity.type | Publication | |
| ipen.autor | MARINA FUSER PILLIS | |
| ipen.autor | RODRIGO TEIXEIRA BENTO | |
| ipen.codigoautor | 758 | |
| ipen.codigoautor | 14417 | |
| ipen.contributor.ipenauthor | MARINA FUSER PILLIS | |
| ipen.contributor.ipenauthor | RODRIGO TEIXEIRA BENTO | |
| ipen.date.recebimento | 18-02 | pt_BR |
| ipen.identifier.fi | Sem F.I. | pt_BR |
| ipen.identifier.ipendoc | 24307 | pt_BR |
| ipen.subtitulo | uma revisão | pt_BR |
| ipen.type.genre | Artigo | |
| relation.isAuthorOfPublication | 90a23f45-0a62-4233-b676-a06bd75d6cc3 | |
| relation.isAuthorOfPublication | 1399531c-e590-4f6e-9199-69603dcc1642 | |
| relation.isAuthorOfPublication.latestForDiscovery | 1399531c-e590-4f6e-9199-69603dcc1642 | |
| sigepi.autor.atividade | BENTO, RODRIGO T.:14417:-1:S | pt_BR |
| sigepi.autor.atividade | PILLIS, MARINA F.:758:730:N | pt_BR |