Caracterização de filmes de nitreto de titânio obtidos por MOCVD
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Data de publicação:
2009
Autores IPEN
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CONGRESSO BRASILEIRO DE CERAMICA, 53.
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Resumo
O uso de revestimentos cerâmicos no setor industrial é bastante conhecido, seja
para aumentar o desempenho de ferramentas de corte, na proteção contra corrosão
ou ainda nas áreas de microeletrônica, óptica e médica. Dentre estes revestimentos,
se destacam os nitretos de metais de transição, que despertaram interesse especial
devido a sua alta dureza e estabilidade térmica. Neste trabalho foram obtidos filmes
finos de nitreto de titânio por meio da técnica MOCVD (metallorganic chemical vapor
deposition). Os crescimentos foram conduzidos por 1h a 700°C sob pressão de 80 e
100 mbar. Os revestimentos foram caracterizados por microscopia eletrônica de
varredura acoplada a análises químicas por energia dispersiva, e difração de raiosX. Resultados preliminares sugerem a formação da fase Ti2N, e velocidades de
crescimento da camada que variaram de 4 a 13 nm/min em função da variável de
processo considerada.
Como referenciar
PILLIS, M.F.; FRANCO, A.C.; ARAUJO, E.G. de; SACILOTTI, M. Caracterização de filmes de nitreto de titânio obtidos por MOCVD. In: CONGRESSO BRASILEIRO DE CERAMICA, 53., 7-10 de junho, 2009, Guaruja, SP. Anais... Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/16683. Acesso em: 19 Feb 2025.
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