Measurement of optical materials ablation threshold dependence on the dispersion of ultrashort pulses
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2019
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SBFOTON INTERNATIONAL OPTICS AND PHOTONICS CONFERENCE
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Resumo
The ablation threshold for ultrashort pulses of
common optical materials (BK7 glass, Sapphire and Fused
Silica), was measured using the D-Scan technique, for positive
and negative dispersions covering pulse durations from 30 fs to
100 fs. We observed that the ablation threshold for a single shot
and at saturation increase with the pulse duration and the
material bandgap, and also that defects which decrease the
threshold values accumulate faster as the material bandgap
increases.
Como referenciar
ROCHA, GILBERTO A. dos S.; VIEIRA JUNIOR, NILSON D.; SAMAD, RICARDO E. Measurement of optical materials ablation threshold dependence on the dispersion of ultrashort pulses. In: SBFOTON INTERNATIONAL OPTICS AND PHOTONICS CONFERENCE, October 7-9, 2019, São Paulo, SP. Proceedings... Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/30295. Acesso em: 19 Feb 2025.
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