Caracterização de filmes de nitreto de titânio obtidos por MOCVD
dc.contributor.author | PILLIS, M.F. | pt_BR |
dc.contributor.author | FRANCO, A.C. | pt_BR |
dc.contributor.author | ARAUJO, E.G. de | pt_BR |
dc.contributor.author | SACILOTTI, M. | pt_BR |
dc.coverage | Nacional | pt_BR |
dc.creator.evento | CONGRESSO BRASILEIRO DE CERAMICA, 53. | pt_BR |
dc.date.accessioned | 2014-11-17T18:22:13Z | pt_BR |
dc.date.accessioned | 2014-11-18T18:30:17Z | pt_BR |
dc.date.accessioned | 2015-04-02T00:32:35Z | |
dc.date.available | 2014-11-17T18:22:13Z | pt_BR |
dc.date.available | 2014-11-18T18:30:17Z | pt_BR |
dc.date.available | 2015-04-02T00:32:35Z | |
dc.date.evento | 7-10 de junho, 2009 | pt_BR |
dc.description.abstract | O uso de revestimentos cerâmicos no setor industrial é bastante conhecido, seja para aumentar o desempenho de ferramentas de corte, na proteção contra corrosão ou ainda nas áreas de microeletrônica, óptica e médica. Dentre estes revestimentos, se destacam os nitretos de metais de transição, que despertaram interesse especial devido a sua alta dureza e estabilidade térmica. Neste trabalho foram obtidos filmes finos de nitreto de titânio por meio da técnica MOCVD (metallorganic chemical vapor deposition). Os crescimentos foram conduzidos por 1h a 700°C sob pressão de 80 e 100 mbar. Os revestimentos foram caracterizados por microscopia eletrônica de varredura acoplada a análises químicas por energia dispersiva, e difração de raiosX. Resultados preliminares sugerem a formação da fase Ti2N, e velocidades de crescimento da camada que variaram de 4 a 13 nm/min em função da variável de processo considerada. | |
dc.identifier.citation | PILLIS, M.F.; FRANCO, A.C.; ARAUJO, E.G. de; SACILOTTI, M. Caracterização de filmes de nitreto de titânio obtidos por MOCVD. In: CONGRESSO BRASILEIRO DE CERAMICA, 53., 7-10 de junho, 2009, Guaruja, SP. <b>Anais...</b> Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/16683. | |
dc.identifier.orcid | https://orcid.org/0000-0002-1423-871X | |
dc.identifier.uri | http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/16683 | pt_BR |
dc.local.evento | Guaruja, SP | pt_BR |
dc.rights | openAccess | pt_BR |
dc.subject | films | pt_BR |
dc.subject | titanium nitrides | pt_BR |
dc.subject | chemical vapor deposition | pt_BR |
dc.subject | coatings | pt_BR |
dc.subject | scanning electron microscopy | pt_BR |
dc.subject | x-ray diffraction | pt_BR |
dc.title | Caracterização de filmes de nitreto de titânio obtidos por MOCVD | pt_BR |
dc.type | Texto completo de evento | pt_BR |
dspace.entity.type | Publication | |
ipen.autor | EDVAL GONCALVES DE ARAUJO | |
ipen.autor | MARINA FUSER PILLIS | |
ipen.codigoautor | 1689 | |
ipen.codigoautor | 758 | |
ipen.contributor.ipenauthor | EDVAL GONCALVES DE ARAUJO | |
ipen.contributor.ipenauthor | MARINA FUSER PILLIS | |
ipen.date.recebimento | 09-12 | pt_BR |
ipen.event.datapadronizada | 2009 | pt_BR |
ipen.identifier.ipendoc | 14240 | pt_BR |
ipen.notas.internas | Anais | pt_BR |
ipen.type.genre | Artigo | |
relation.isAuthorOfPublication | 2cd8f606-0df7-4f09-92fe-793ae80da1e4 | |
relation.isAuthorOfPublication | 90a23f45-0a62-4233-b676-a06bd75d6cc3 | |
relation.isAuthorOfPublication.latestForDiscovery | 2cd8f606-0df7-4f09-92fe-793ae80da1e4 | |
sigepi.autor.atividade | PILLIS, M.F.:758:730:S | pt_BR |
sigepi.autor.atividade | ARAUJO, E.G. DE:1689:-1:N | pt_BR |
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