Ablação seletiva por laser de femtossegundo de um filme de TiN depositado sobre um substrato de WC
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2016
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CONGRESSO ANUAL DA ABM, 71.
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Resumo
A tecnologia de filmes finos vem sendo cada vez mais utilizada nas mais diversas áreas, principalmente em células de combustível, células fotovoltaicas além de recobrimentos com diversas funções (ópticas, decorativas, proteção ambiental, proteção ao desgaste mecânico, como barreiras de difusão, dentre outros) [1]. Os filmes são normalmente depositados por sputering, sendo muitas vezes necessário impedir o crescimento do filme, ou até mesmo, eliminar a camada em determinadas regiões da superfície, como por exemplo, para fabricação de células fotovoltaicas. Um dos métodos utilizados para remoção de filmes é a ablação seletiva por laser, que, com o avanço das técnicas de controle e equipamentos cada vez mais precisos, vem ganhando espaço nos processos industriais de fabricação [2]. No entanto, caso o limiar de ablação do filme seja maior que o do substrato, o processo poderá se tornar muito complexo, este trabalho tem por objetivo desenvolver um método que permita a remoção seletiva de filmes desta natureza, ou seja, com limiar de ablação maior que o do substrato onde foram depositados, utilizando um laser de pulsos ultracurtos.
Como referenciar
SPINELLI, EDUARDO; SAMAD, RICARDO E.; VIEIRA JUNIOR, NILSON D.; ROSSI, WAGNER de. Ablação seletiva por laser de femtossegundo de um filme de TiN depositado sobre um substrato de WC. In: CONGRESSO ANUAL DA ABM, 71., 27-29 de setembro, 2016, Riocentro, Rio de Janeiro. Resumo... Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/27335. Acesso em: 26 Apr 2024.
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