Desenvolvimento de um sistema baseado em deposição por laser pulsado para o crescimento de filmes finos radioativos

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dc.contributor.advisorMarcus Paulo Raelept_BR
dc.contributor.authorMACHADO, NOE G.P.pt_BR
dc.coverageNacionalpt_BR
dc.date.accessioned2020-10-25T20:59:32Z
dc.date.available2020-10-25T20:59:32Z
dc.date.issued2019pt_BR
dc.description.abstractFilmes finos radioativos possuem aplicação direta no desenvolvimento de baterias betavoltaicas e alfavoltaicas. Sendo que, a principal vantagem dessas baterias nucleares é a sua durabilidade que pode variar de dezenas a até uma centena de anos, dependendo da meia-vida do radioisótopo utilizado. Nesse contexto, a Deposição por Laser Pulsado (PLD) apresenta-se como uma importante ferramenta. Um aspecto relevante de um sistema que utiliza essa técnica, é que os principais equipamentos ficam fora da câmara onde o material é processado. Logo, tal característica viabiliza o crescimento de filmes finos radioativos, pois possibilita o desenvolvimento de um arranjo onde a área contaminada, devido o processamento de um alvo radioativo, seja controlada. Dessa maneira, o presente trabalho aborda o desenvolvimento de um sistema PLD destinado ao crescimento de filmes finos radioativos. Assim, no que concerne à obtenção da câmara de vácuo e montagem das peças, o sistema foi em grande maioria projetado em um software CAD 3D. Posteriormente, as peças que estariam sujeitas à contaminação por material radioativo foram usinadas e também obtidas através de impressão 3D, sendo assim, de fácil reposição. Como no processo de ablação há a formação de material particulado, um filtro com capacidade para retenção de 99,95% de partículas com até 0,3 µm foi acoplado à câmara, para que o material radioativo não fosse disperso para o restante dos equipamentos de vácuo. O sistema foi então implementado e alvos de Cobre radioativo foram processados durante 60 min e 120 min, resultando em filmes finos radioativos com espessura média de (167,81 ± 3,67) nm e (313,47 ± 9,17) nm, respectivamente. Dessa forma, foi realizado um estudo acerca da dinâmica de contaminação do sistema, em que o filtro utilizado mostrou-se eficiente na retenção do material radioativo, possibilitando que a contaminação ficasse retida na câmara de vácuo. Portanto, demonstra-se pela primeira vez a viabilidade da utilização da técnica PLD no crescimento de filmes finos radioativos, sendo então, possível a utilização desta em estudos futuros acerca do desenvolvimento de baterias nucleares betavoltaicas e alfavoltaicas.pt_BR
dc.description.notasgeraisDissertação (Mestrado em Tecnologia Nuclear)pt_BR
dc.description.notasteseIPEN/Dpt_BR
dc.description.sponsorshipCoordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)
dc.description.sponsorshipIDCAPES: PROEX 004104133002010050P7
dc.description.teseinstituicaoInstituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares - IPEN-CNEN/SPpt_BR
dc.format.extent93pt_BR
dc.identifier.citationMACHADO, NOE G.P. <b>Desenvolvimento de um sistema baseado em deposição por laser pulsado para o crescimento de filmes finos radioativos</b>. Orientador: Marcus Paulo Raele. 2019. 93 f. Dissertação (Mestrado em Tecnologia Nuclear) - Instituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares - IPEN-CNEN/SP, São Paulo. DOI: <a href="https://dx.doi.org/10.11606/D.85.2019.tde-07102020-081734">10.11606/D.85.2019.tde-07102020-081734</a>. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/31529.
dc.identifier.doi10.11606/D.85.2019.tde-07102020-081734pt_BR
dc.identifier.urihttp://repositorio.ipen.br/handle/123456789/31529
dc.localSão Paulopt_BR
dc.rightsopenAccesspt_BR
dc.subjectthin films
dc.subjectpulsed irradiation
dc.subjectlaser radiation
dc.subjectablation
dc.subjectdeposition
dc.subjectvacuum states
dc.subjectionization chambers
dc.subjectradiation doses
dc.subjectthree-dimensional calculations
dc.subjectthree-dimensional lattices
dc.subjectelectric batteries
dc.subjectbeta sources
dc.subjectalpha sources
dc.subjectperformance testing
dc.titleDesenvolvimento de um sistema baseado em deposição por laser pulsado para o crescimento de filmes finos radioativospt_BR
dc.title.alternativeDevelopment of a system based on pulsed laser deposition aiming to produce radioactive thin filmspt_BR
dc.typeDissertaçãopt_BR
dspace.entity.typePublication
ipen.autorNOE GABRIEL PINHEIRO MACHADO
ipen.codigoautor14630
ipen.contributor.ipenauthorNOE GABRIEL PINHEIRO MACHADO
ipen.date.recebimento20-10
ipen.identifier.ipendoc27297pt_BR
ipen.meioeletronicohttps://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-07102020-081734/pt-br.phppt_BR
ipen.type.genreDissertação
relation.isAuthorOfPublication02613432-94e8-44bb-88da-4b6feb5b944a
relation.isAuthorOfPublication.latestForDiscovery02613432-94e8-44bb-88da-4b6feb5b944a
sigepi.autor.atividadeMACHADO, NOE G.P.:14630:910:Spt_BR
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