Caracterização óptica de filmes finos de NbOx obtidos por sputtering reativo

dc.contributor.advisorMarina Fuser Pillispt_BR
dc.contributor.authorSCHEIDT, GUILHERME
dc.coverageNacionalpt_BR
dc.date.accessioned2015-02-20T13:22:28Z
dc.date.available2015-02-20T13:22:28Z
dc.date.issued2014pt_BR
dc.description.abstractFilmes finos de óxido de nióbio têm sido usados em muitas aplicações tecnológicas. Existem pelo menos três óxidos estáveis de nióbio: NbO, NbO2 e Nb2O5 e cada um deles tem propriedades específicas. O Nb2O5 é a forma termodinamicamente mais estável e apresenta propriedades físicas e químicas únicas, como alto índice de refração, band gap largo, excelente estabilidade química e resistência à corrosão, baixa absorção óptica no campo da luz visível até regiões próximas ao infra-vermelho, sendo amplamente utilizados como filtros de interferência óptica de alta qualidade. Neste trabalho foram depositados filmes de óxido de nióbio por meio da técnica de sputtering reativo sobre substratos de silício e borossilicato. Os filmes finos foram obtidos com vazão de oxigênio variando entre 15 e zero sccm. O objetivo deste trabalho foi a caracterização das propriedades ópticas dos filmes. Foram avaliados o índice de refração e a espessura pela técnica de elipsometria, o band gap pelo método de Tauc e a razão atômica e a densidade superficial por meio de Espectrometria de Retroespalhamento Rutherford (RBS). Foram obtidos espectros de transmitância e refletância por Espectrofotometria UV/Vis/NIR e o coeficiente de extinção foi calculado pelo método de Hong. Todos estes parâmetros são importantes para aplicação em dispositivos ópticos. Nos filmes depositados com vazão de oxigênio de 15 sccm foi observado que o índice de refração aumenta com o aumento da espessura dos filmes e que o composto formado foi Nb2O5. Para uma vazão de 2,0 sccm foi encontrado o composto NbO2 e o filme apresentou alta absorção ótica. Os resultados sugerem que outros óxidos de nióbio ou nióbio metálico foram incorporados nos filmes conforme o fluxo de oxigênio foi diminuído. Foi observada uma relação direta entre a diminuição da vazão de oxigênio durante a deposição e um aumento da quantidade de nióbio nos filmes, acompanhados de um aumento do índice de refração e da densidade superficial.pt_BR
dc.description.notasgeraisDissertação (Mestrado em Tecnologia Nuclear)pt_BR
dc.description.notasteseIPEN/Dpt_BR
dc.description.teseinstituicaoInstituto de Pesquisas Energeticas e Nucleares - IPEN-CNEN/SPpt_BR
dc.format.extent73pt_BR
dc.identifier.citationSCHEIDT, GUILHERME. <b>Caracterização óptica de filmes finos de NbOx obtidos por sputtering reativo</b>. Orientador: Marina Fuser Pillis. 2014. 73 f. Dissertação (Mestrado em Tecnologia Nuclear) - Instituto de Pesquisas Energeticas e Nucleares - IPEN-CNEN/SP, São Paulo. DOI: <a href="https://dx.doi.org/10.11606/D.85.2014.tde-22012015-141307">10.11606/D.85.2014.tde-22012015-141307</a>. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/23486.
dc.identifier.doi10.11606/D.85.2014.tde-22012015-141307
dc.identifier.urihttp://repositorio.ipen.br/handle/123456789/23486
dc.localSão Paulopt_BR
dc.rightsopenAccesspt_BR
dc.subjectthin films
dc.subjectniobium oxides
dc.subjectsputtering
dc.subjectrefractive index
dc.subjectoptical properties
dc.subjectchemical properties
dc.subjectcorrosion resistance
dc.subjectsilicon
dc.subjectboron silicates
dc.subjectellipsometry
dc.subjectrutherford scattering
dc.titleCaracterização óptica de filmes finos de NbOx obtidos por sputtering reativopt_BR
dc.title.alternativeOptical characterization of NbOx thin films obtained by reactive sputtering
dc.typeDissertaçãopt_BR
dspace.entity.typePublication
ipen.date.recebimento15-02pt_BR
ipen.identifier.ipendoc20529pt_BR
ipen.identifier.localizacaoT539.23 / S318c
ipen.meioeletronicohttp://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-22012015-141307/pt-br.php
ipen.type.genreDissertação

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