Caracterização de revestimentos TiO2/TiN com estrutura de multicamadas obtidos por deposição química em fase vapor
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Data de publicação
2010
Autores IPEN
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CONGRESSO BRASILEIRO DE CERAMICA, 54.
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Resumo
Este trabalho teve por objetivo o crescimento, em uma única etapa, de filmes
compostos por multicamadas TiO2/TiN. O crescimento foi feito sobre substrato Si
(100) em um equipamento MOCVD horizontal. Isopropóxido de titânio foi utilizado
como fontes de oxigênio e de titânio. Amônia foi utilizada como fonte de nitrogênio.
Os testes foram conduzidos sob pressão de 80 mbar, na temperatura de 700°C. Os
filmes foram caracterizados por meio de técnicas de microscopia eletrônica de
varredura com emissão de campo (MEV-FEG), e difração de raios X (DRX). Foram
obtidos filmes de 4 e 8 bicamadas TiO2/TiN. Os filmes apresentam estrutura colunar.
Como referenciar
GONCALVES, A.; SACILOTTI, M.; FRANCO, A.C.; PILLIS, M.F. Caracterização de revestimentos TiO2/TiN com estrutura de multicamadas obtidos por deposição química em fase vapor. In: CONGRESSO BRASILEIRO DE CERAMICA, 54., 30 de maio - 2 de junho, 2010, Foz do Iguacu, PR. Anais... Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/17979. Acesso em: 30 Dec 2025.
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