Caracterização de revestimentos TiO2/TiN com estrutura de multicamadas obtidos por deposição química em fase vapor

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dc.contributor.authorGONCALVES, A.pt_BR
dc.contributor.authorSACILOTTI, M.pt_BR
dc.contributor.authorFRANCO, A.C.pt_BR
dc.contributor.authorPILLIS, M.F.pt_BR
dc.coverageNacionalpt_BR
dc.creator.eventoCONGRESSO BRASILEIRO DE CERAMICA, 54.pt_BR
dc.date.accessioned2014-11-17T18:40:29Zpt_BR
dc.date.accessioned2014-11-18T19:03:59Zpt_BR
dc.date.accessioned2015-04-01T20:24:03Z
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dc.date.available2015-04-01T20:24:03Z
dc.date.evento30 de maio - 2 de junho, 2010pt_BR
dc.description.abstractEste trabalho teve por objetivo o crescimento, em uma única etapa, de filmes compostos por multicamadas TiO2/TiN. O crescimento foi feito sobre substrato Si (100) em um equipamento MOCVD horizontal. Isopropóxido de titânio foi utilizado como fontes de oxigênio e de titânio. Amônia foi utilizada como fonte de nitrogênio. Os testes foram conduzidos sob pressão de 80 mbar, na temperatura de 700°C. Os filmes foram caracterizados por meio de técnicas de microscopia eletrônica de varredura com emissão de campo (MEV-FEG), e difração de raios X (DRX). Foram obtidos filmes de 4 e 8 bicamadas TiO2/TiN. Os filmes apresentam estrutura colunar.
dc.identifier.citationGONCALVES, A.; SACILOTTI, M.; FRANCO, A.C.; PILLIS, M.F. Caracterização de revestimentos TiO2/TiN com estrutura de multicamadas obtidos por deposição química em fase vapor. In: CONGRESSO BRASILEIRO DE CERAMICA, 54., 30 de maio - 2 de junho, 2010, Foz do Iguacu, PR. <b>Anais...</b> Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/17979.
dc.identifier.orcidhttps://orcid.org/0000-0002-1423-871X
dc.identifier.urihttp://repositorio.ipen.br/handle/123456789/17979pt_BR
dc.local.eventoFoz do Iguacu, PRpt_BR
dc.rightsopenAccesspt_BR
dc.subjecttitanium oxidespt_BR
dc.subjecttitanium nitridespt_BR
dc.subjectcoatingspt_BR
dc.subjectfilmspt_BR
dc.subjectchemical vapor depositionpt_BR
dc.titleCaracterização de revestimentos TiO2/TiN com estrutura de multicamadas obtidos por deposição química em fase vaporpt_BR
dc.typeTexto completo de eventopt_BR
dspace.entity.typePublication
ipen.autorMARINA FUSER PILLIS
ipen.autorANDRÉ GONÇALVES
ipen.codigoautor758
ipen.codigoautor7483
ipen.contributor.ipenauthorMARINA FUSER PILLIS
ipen.contributor.ipenauthorANDRÉ GONÇALVES
ipen.date.recebimento11-01pt_BR
ipen.event.datapadronizada2010pt_BR
ipen.identifier.ipendoc16149pt_BR
ipen.notas.internasAnaispt_BR
ipen.type.genreArtigo
relation.isAuthorOfPublication90a23f45-0a62-4233-b676-a06bd75d6cc3
relation.isAuthorOfPublication522fe5a9-5cc3-46df-90ed-c065ec494a26
relation.isAuthorOfPublication.latestForDiscovery90a23f45-0a62-4233-b676-a06bd75d6cc3
sigepi.autor.atividadeGONÇALVES, A.:7483:730:Spt_BR
sigepi.autor.atividadePILLIS, M.F.:758:730:Npt_BR

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