Caracterização morfológica de filmes de TiO2 dopados com nitrogênio crescidos por MOCVD
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2019
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CONGRESSO BRASILEIRO DE QUÍMICA, 59.
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Resumo
O método de deposição química de organometálicos em fase vapor (MOCVD) foi utilizado para o
crescimento de filmes de dióxido de titânio (TiO2) e TiO2 dopado com nitrogênio. Os filmes foram
crescidos a 400 °C sobre substratos de vidro borossilicato. Isopropóxido de titânio IV foi utilizado
como precursor de titânio e de oxigênio, e amônia (NH3) como fonte de nitrogênio. Análises por
microscopia de força atômica (AFM) mostraram que ambos os filmes apresentaram grãos bem
definidos e arredondados. Todos os filmes são formados apenas pela fase cristalina anatase. Os
resultados mostraram que a dopagem com nitrogênio resultou em uma diminuição no tamanho
médio de grão e na rugosidade superficial.
Como referenciar
OLIVEIRA, E.C. de; CORREA, O.V.; BENTO, R.T.; COTINHO, S.P.; SANTOS, T.F. dos; PILLIS, M.F. Caracterização morfológica de filmes de TiO2 dopados com nitrogênio crescidos por MOCVD. In: CONGRESSO BRASILEIRO DE QUÍMICA, 59., 5-8 de novembro, 2019, João Pessoa, PB. Anais... Rio de Janeiro, RJ: Associação Brasileira de Química, 2019. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/30959. Acesso em: 20 Mar 2026.
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