Caracterização morfológica de filmes de TiO2 dopados com nitrogênio crescidos por MOCVD

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dc.contributor.authorOLIVEIRA, E.C. dept_BR
dc.contributor.authorCORREA, O.V.pt_BR
dc.contributor.authorBENTO, R.T.pt_BR
dc.contributor.authorCOTINHO, S.P.pt_BR
dc.contributor.authorSANTOS, T.F. dospt_BR
dc.contributor.authorPILLIS, M.F.pt_BR
dc.coverageNacionalpt_BR
dc.creator.eventoCONGRESSO BRASILEIRO DE QUÍMICA, 59.pt_BR
dc.date.accessioned2020-03-26T13:07:55Z
dc.date.available2020-03-26T13:07:55Z
dc.date.evento5-8 de novembro, 2019pt_BR
dc.description.abstractO método de deposição química de organometálicos em fase vapor (MOCVD) foi utilizado para o crescimento de filmes de dióxido de titânio (TiO2) e TiO2 dopado com nitrogênio. Os filmes foram crescidos a 400 °C sobre substratos de vidro borossilicato. Isopropóxido de titânio IV foi utilizado como precursor de titânio e de oxigênio, e amônia (NH3) como fonte de nitrogênio. Análises por microscopia de força atômica (AFM) mostraram que ambos os filmes apresentaram grãos bem definidos e arredondados. Todos os filmes são formados apenas pela fase cristalina anatase. Os resultados mostraram que a dopagem com nitrogênio resultou em uma diminuição no tamanho médio de grão e na rugosidade superficial.pt_BR
dc.description.sponsorshipConselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq)pt_BR
dc.description.sponsorshipFundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)pt_BR
dc.description.sponsorshipIDCNPq: 168935/2018-0pt_BR
dc.description.sponsorshipIDFAPESP: 05/55861-4pt_BR
dc.event.siglaCBQpt_BR
dc.identifier.citationOLIVEIRA, E.C. de; CORREA, O.V.; BENTO, R.T.; COTINHO, S.P.; SANTOS, T.F. dos; PILLIS, M.F. Caracterização morfológica de filmes de TiO2 dopados com nitrogênio crescidos por MOCVD. In: CONGRESSO BRASILEIRO DE QUÍMICA, 59., 5-8 de novembro, 2019, João Pessoa, PB. <b>Anais...</b> Rio de Janeiro, RJ: Associação Brasileira de Química, 2019. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/30959.
dc.identifier.orcid0000-0002-1423-871Xpt_BR
dc.identifier.orcid0000-0002-1797-9652pt_BR
dc.identifier.orcidhttps://orcid.org/0000-0002-1423-871X
dc.identifier.urihttp://repositorio.ipen.br/handle/123456789/30959
dc.localRio de Janeiro, RJpt_BR
dc.local.eventoJoão Pessoa, PBpt_BR
dc.publisherAssociação Brasileira de Químicapt_BR
dc.rightsopenAccesspt_BR
dc.subjecttitanium oxides
dc.subjectorganometallic compounds
dc.subjectchemical vapor deposition
dc.subjectdoped materials
dc.subjectnitrogen
dc.titleCaracterização morfológica de filmes de TiO2 dopados com nitrogênio crescidos por MOCVDpt_BR
dc.typeTexto completo de eventopt_BR
dspace.entity.typePublication
ipen.autorRODRIGO TEIXEIRA BENTO
ipen.autorSAMUEL PEREIRA COTINHO
ipen.autorMARINA FUSER PILLIS
ipen.autorTHIAGO FERNANDO DOS SANTOS
ipen.autorOLANDIR VERCINO CORREA
ipen.autorEDUARDO CESAR DE OLIVEIRA
ipen.codigoautor14417
ipen.codigoautor14843
ipen.codigoautor758
ipen.codigoautor11700
ipen.codigoautor488
ipen.codigoautor14591
ipen.contributor.ipenauthorRODRIGO TEIXEIRA BENTO
ipen.contributor.ipenauthorSAMUEL PEREIRA COTINHO
ipen.contributor.ipenauthorMARINA FUSER PILLIS
ipen.contributor.ipenauthorTHIAGO FERNANDO DOS SANTOS
ipen.contributor.ipenauthorOLANDIR VERCINO CORREA
ipen.contributor.ipenauthorEDUARDO CESAR DE OLIVEIRA
ipen.date.recebimento20-03
ipen.event.datapadronizada2019pt_BR
ipen.identifier.ipendoc26759pt_BR
ipen.notas.internasAnaispt_BR
ipen.type.genreArtigo
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sigepi.autor.atividadePILLIS, M.F.:758:730:Npt_BR
sigepi.autor.atividadeSANTOS, T.F. dos:11700:-1:Npt_BR
sigepi.autor.atividadeCOTINHO, S.P.:14843:730:Npt_BR
sigepi.autor.atividadeBENTO, R.T.:14417:730:Npt_BR
sigepi.autor.atividadeCORREA, O.V.:488:730:Npt_BR
sigepi.autor.atividadeOLIVEIRA, E.C. de:14591:730:Spt_BR

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