Thermophoretic efficiency in the MCVD process
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2023
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INTERNATIONAL CONFERENCE ON OPTICAL MEMS AND NANOPHOTONICS; SBFOTON INTERNATIONAL OPTICS AND PHOTONICS CONFERENCE
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Resumo
The thermophoretic efficiency in the modified chemical vapour deposition (MCVD) process has been numerically determined under specified conditions of temperature and velocity field in the silica deposition tube. A CFD code was used to solve a steady-state numerical model of the MCVD process. The cumulative efficiency of SiO2 and GeO2 deposition was calculated along the tube length, yielding to a maximum value of 42% and 37 % respectivelly.
Como referenciar
SILVA, RUBENS C. da; MORAIS, PAULO J.D. de; CARVALHO, ANDRE; ROSSI, WAGNER de; MOTTA, CLAUDIO C. Thermophoretic efficiency in the MCVD process: a CFD modeling. In: INTERNATIONAL CONFERENCE ON OPTICAL MEMS AND NANOPHOTONICS; SBFOTON INTERNATIONAL OPTICS AND PHOTONICS CONFERENCE, July 31 - August 3, 2023, Campinas, SP. Proceedings... Piscataway, NJ, USA: IEEE, 2023. DOI: 10.1109/OMN/SBFOTONIOPC58971.2023.10230917. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/34590. Acesso em: 20 Mar 2026.
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