Low-temperature PECVD deposition of highly conductive microcrystalline silicon thin films
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2002
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INTERNATIONAL CONFERENCE ON MATERIALS FOR MICROELECTRONICS AND NANOENGINEERING, 4th
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NARDES, A.M.; ANDRADE, A.M.; FONSECA, F.J.; DIRANI, E.A.T.; MUCCILLO, R.; MUCCILLO, E.N.S. Low-temperature PECVD deposition of highly conductive microcrystalline silicon thin films. In: INTERNATIONAL CONFERENCE ON MATERIALS FOR MICROELECTRONICS AND NANOENGINEERING, 4th, June 10-12, 2002, Espoo, Finland. Proceedings... p. 407-411. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/15380. Acesso em: 30 Dec 2025.
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