Comportamento voltamétrico de filmes finos de TiOsub(2) depositados sobre silício
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2014
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CONGRESSO BRASILEIRO DE ENGENHARIA E CIÊNCIA DOS MATERIAIS, 21.
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CARRIEL, R.C.; PILLIS, M.F. Comportamento voltamétrico de filmes finos de TiOsub(2) depositados sobre silício. In: CONGRESSO BRASILEIRO DE ENGENHARIA E CIÊNCIA DOS MATERIAIS, 21., 9-13 de novembro, 2014, Cuiabá, MT. Anais... p. 803-810. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/23448. Acesso em: 30 Dec 2025.
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