Comportamento voltamétrico de filmes finos de TiOsub(2) depositados sobre silício

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dc.contributor.authorCARRIEL, R.C.pt_BR
dc.contributor.authorPILLIS, M.F.pt_BR
dc.coverageNacionalpt_BR
dc.creator.eventoCONGRESSO BRASILEIRO DE ENGENHARIA E CIÊNCIA DOS MATERIAIS, 21.pt_BR
dc.date.accessioned2015-02-05T13:15:30Zpt_BR
dc.date.accessioned2015-04-02T03:16:45Z
dc.date.available2015-02-05T13:15:30Zpt_BR
dc.date.available2015-04-02T03:16:45Z
dc.date.evento9-13 de novembro, 2014pt_BR
dc.event.siglaCBECIMATpt_BR
dc.format.extent803-810pt_BR
dc.identifier.citationCARRIEL, R.C.; PILLIS, M.F. Comportamento voltamétrico de filmes finos de TiOsub(2) depositados sobre silício. In: CONGRESSO BRASILEIRO DE ENGENHARIA E CIÊNCIA DOS MATERIAIS, 21., 9-13 de novembro, 2014, Cuiabá, MT. <b>Anais...</b> p. 803-810. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/23448.
dc.identifier.orcidhttps://orcid.org/0000-0002-1423-871X
dc.identifier.urihttp://repositorio.ipen.br/handle/123456789/23448pt_BR
dc.local.eventoCuiabá, MTpt_BR
dc.rightsopenAccesspt_BR
dc.subjectthin films
dc.subjecttitanium oxides
dc.subjectsubstrates
dc.subjectvoltametry
dc.titleComportamento voltamétrico de filmes finos de TiOsub(2) depositados sobre silíciopt_BR
dc.typeTexto completo de eventopt_BR
dspace.entity.typePublication
ipen.autorMARINA FUSER PILLIS
ipen.codigoautor758
ipen.contributor.ipenauthorMARINA FUSER PILLIS
ipen.date.recebimento15-02pt_BR
ipen.event.datapadronizada2014pt_BR
ipen.identifier.ipendoc20491pt_BR
ipen.notas.internasAnaispt_BR
ipen.type.genreArtigo
relation.isAuthorOfPublication90a23f45-0a62-4233-b676-a06bd75d6cc3
relation.isAuthorOfPublication.latestForDiscovery90a23f45-0a62-4233-b676-a06bd75d6cc3
sigepi.autor.atividadePILLIS, M.F.:758:730:Npt_BR

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