Influência de parâmetros de processo na microestrutura de filmes de TiO2 obtidos por MOCVD

Página do item simplificado
dc.contributor.authorPILLIS, M.F.pt_BR
dc.contributor.authorBUSSOLIN, A.T.pt_BR
dc.contributor.authorCARDOSO, L.P.pt_BR
dc.contributor.authorSACILOTTI, M.pt_BR
dc.coverageNacionalpt_BR
dc.creator.eventoCONGRESSO BRASILEIRO DE CERAMICA, 54.pt_BR
dc.date.accessioned2014-11-17T18:40:28Zpt_BR
dc.date.accessioned2014-11-18T19:03:34Zpt_BR
dc.date.accessioned2015-04-02T06:20:36Z
dc.date.available2014-11-17T18:40:28Zpt_BR
dc.date.available2014-11-18T19:03:34Zpt_BR
dc.date.available2015-04-02T06:20:36Z
dc.date.evento30 de maio - 2 de junho, 2010pt_BR
dc.description.abstractFilmes finos de TiO2 foram crescidos em um reator MOCVD horizontal, sobre substratos de Si(100). O precursor utilizado foi isopropóxido de titânio, e nitrogênio foi utilizado tanto como gás de arraste do precursor quanto como gás vetor. Os ensaios foram conduzidos a 500°C. As variáveis de processo estudadas foram a pressão de crescimento (50 e 100 mbar), o fluxo de nitrogênio (0 a 0,8 slm), o tempo de crescimento (15 e 60 min) e a temperatura da fonte de isopropóxido (35 e 40°C). A caracterização das amostras foi feita por meio de técnicas de microscopia eletrônica de varredura com emissão de campo e difração de raios-X. Em todos os casos as estruturas de TiO2 apresentaram crescimento colunar e a velocidade de crescimento dos filmes variou entre 16 e 50 nm/min.
dc.identifier.citationPILLIS, M.F.; BUSSOLIN, A.T.; CARDOSO, L.P.; SACILOTTI, M. Influência de parâmetros de processo na microestrutura de filmes de TiO2 obtidos por MOCVD. In: CONGRESSO BRASILEIRO DE CERAMICA, 54., 30 de maio - 2 de junho, 2010, Foz do Iguacu, PR. <b>Anais...</b> Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/17978.
dc.identifier.orcidhttps://orcid.org/0000-0002-1423-871X
dc.identifier.urihttp://repositorio.ipen.br/handle/123456789/17978pt_BR
dc.local.eventoFoz do Iguacu, PRpt_BR
dc.rightsopenAccesspt_BR
dc.subjecttitanium oxidespt_BR
dc.subjectthin filmspt_BR
dc.subjectchemical vapor depositionpt_BR
dc.subjectx-ray diffractionpt_BR
dc.subjectscanning electron microscopypt_BR
dc.subjectmicrostructurept_BR
dc.titleInfluência de parâmetros de processo na microestrutura de filmes de TiO2 obtidos por MOCVDpt_BR
dc.typeTexto completo de eventopt_BR
dspace.entity.typePublication
ipen.autorMARINA FUSER PILLIS
ipen.autorANGELO TRONI BUSSOLIN
ipen.codigoautor758
ipen.codigoautor6594
ipen.contributor.ipenauthorMARINA FUSER PILLIS
ipen.contributor.ipenauthorANGELO TRONI BUSSOLIN
ipen.date.recebimento11-01pt_BR
ipen.event.datapadronizada2010pt_BR
ipen.identifier.ipendoc16148pt_BR
ipen.notas.internasAnaispt_BR
ipen.type.genreArtigo
relation.isAuthorOfPublication90a23f45-0a62-4233-b676-a06bd75d6cc3
relation.isAuthorOfPublicationd32d0828-5110-4f2a-9f24-c27d5b3bdc52
relation.isAuthorOfPublication.latestForDiscovery90a23f45-0a62-4233-b676-a06bd75d6cc3
sigepi.autor.atividadePILLIS, M.F.:758:730:Spt_BR
sigepi.autor.atividadeBUSSOLIN, A.T.:6594:730:Npt_BR
Pacote Original
Agora exibindo 1 - 1 de 1
Imagem de Miniatura
Nome:
16148.pdf
Tamanho:
662.51 KB
Formato:
Adobe Portable Document Format
Baixar
Coleções
Eventos