Filmes finos de alumina em substratos de alumínio 5052 por processo de Oxidação Eletrolítica à Plasma

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A alumina, ou óxido de alumínio, tem diversas aplicações como Biomaterial, além de ser utilizada em ferramentas de usinagem, retificas, isolamento térmico, blindagens, refratários para fornos de aquecimento, isoladores elétricos, componentes eletrônicos, devido a sua elevada resistência a altas temperaturas, dureza, resistência mecânica e resistência química. Sua obtenção é decorrente de processos intermediários da fabricação do alumínio primário e também de processos de deposição físicos e químicos. Este trabalho tem como objetivo a obtenção de filmes finos de alumina por meio do processo de Oxidação Eletrolítica à Plasma ou Plasma Eletrolítico de Oxidação (PEO), usando como substrato a liga de alumínio 5052. Este estudo serve de base para aplicações de filmes de finos de alumina em rotores de bombas de sangue centrífugas implantáveis, usadas como dispositivos de assistência ventricular desenvolvidos pelo Laboratório de Bioengenharia e Biomateriais do Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia de São Paulo. As amostras foram preparadas com a mesma área superficial do rotor, visando simular o mesmo comportamento da deposição do filme no rotor e, desta forma, estudar a morfologia em diferentes tempos e energias de oxidação e como a influência do tempo e da energia na geração dos micro-arcos de plasma agem na formação do filme de alumina. A caracterização do filme foi realizada por Microscopia Eletrônica de Varredura, Espectroscopia por Energia Dispersiva e Difração de Raios X. Os filmes cerâmicos no PEO são criados através da reação da solução eletrolítica com as descargas elétricas produzidas por uma fonte, sendo depositados na superfície das amostras através de micro arcos. Em trabalhos futuros os filmes serão testados quanto à sua viabilidade celular e também serão avaliados como recobrimento interno de bombas de sangue centrífugas implantáveis para utilização em dispositivos de assistência ventricular.

Como referenciar
VIANA, J.L.; SA, R.C.L.; ARAUJO, T.E.S.; RIBEIRO, R.P.; RANGEL, E.C.; CRUZ, N.C.; MARTINEZ, L.G.; BOCK, E.G.P. Filmes finos de alumina em substratos de alumínio 5052 por processo de Oxidação Eletrolítica à Plasma. The Academic Society Journal, v. 4, n. 3, p. 167-180, 2020. DOI: 10.32640/tasj.2020.3.167. Disponível em: http://200.136.52.105/handle/123456789/31648. Acesso em: 30 Dec 2025.
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