Effects of hot isostatic pressure on titanium nitride films deposited by physical vapor depositation
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CARBONARI, M.J.; MARTINELLI, J.R. Effects of hot isostatic pressure on titanium nitride films deposited by physical vapor depositation. Materials Research, v. 4, n. 3, p. 163-168, 2001. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/6181. Acesso em: 30 Dec 2025.
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