Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films
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Applied Surface Science
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MORIMOTO, N.I.; SWART, J.W.; RIELLA, H.G. Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films. Applied Surface Science, v. 38, p. 48, 1989. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/8798. Acesso em: 30 Dec 2025.
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