Low-temperature PECVD deposition of highly conductive microcrystalline silicon thin films
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Journal of Materials Science: Materials in Electronics
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NARDES, A.M.; ANDRADE, A.M.; FONSECA, F.J.; DIRANI, E.A.T.; MUCCILLO, R.; MUCCILLO, E.N.S. Low-temperature PECVD deposition of highly conductive microcrystalline silicon thin films. Journal of Materials Science: Materials in Electronics, v. 14, n. 5/7, p. 407-411, 2003. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/7494. Acesso em: 20 Mar 2026.
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