Morfologia de filmes finos nanoestruturados de ZnO produzidos pelo método SILAR
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2021
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Resumo
A utilização do ZnO no campo
da nanotecnologia é ampla devido a
características físicas únicas tais como,
banda proibida (~3,37 eV), energia de ligação
de éxciton de 60 MeV, atóxico e de baixo custo.
A estrutura cristalina hexagonal permite
obter uma ampla diversidade de morfologias
e isto permite sua utilização em: lasers de UV,
cristais piezoeléctricos, sensores químicos,
sensores de gás, diodos emissores de luz,
foto detectores e células solares. Uma das
possíveis morfologia do filme fino de ZnO é
um arranjo unidimensional submicrométrico
de bastões, nanobastões e nanofios, o
qual tem atraído muito interesse devido a
alta área superficial e a alta proporção de
aspecto, que são nanopartículas com um
comprimento muitas vezes maior do que
sua largura. Neste trabalho foi estudada
a influência dos parâmetros do método
de adsorção de camada iônica e reação
sucessivas (SILAR) na obtenção de filmes
de ZnO nanoestruturados sobre substrato de vidro recoberto com óxido de estanho dopado com flúor (SnO2:F). Na temperatura
de 90°C ocorreu a formação de ZnO e o aumento de nanoestruturas formadas. A
quantidade de ciclos e responsável pela densidade superficial, o crescimento acelerase
após se atingir a densidade superficial critica. O tempo de permanência no banho
de nucleação não tem influência significativa, já no banho de crescimento com o
aumento do tempo ocorreu coalescimento das nanoestruturas. O uso do cloreto de
zinco como precursor no banho de nucleação apresentou crescimento mais lento para
concentrações molares baixas, o aumento da concentração molar resultou em filmes
porosos. Os resultados obtidos neste estudo mostraram que alterações simples nas
variáveis do processo SILAR para obtenção de ZnO permitiram desde a obtenção de
nanoestruturas individuais a filmes compactos ou porosos.
Como referenciar
GALEGO, EGUIBERTO; SERNA, MARILENE M.; RAMANATHAN, LALGUDI V.; FARIA JUNIOR, RUBENS N. de. Morfologia de filmes finos nanoestruturados de ZnO produzidos pelo método SILAR. In: NOBRE, MARCOS A. de L. (org.). The Great World of Nanotechnology. Curitiba, PR: Artemis, 2021. v. 2, cap. 16. p. 212-227. DOI: 10.37572/EdArt_30062136116. Disponível em: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/32815. Acesso em: 12 Mar 2025.
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